日立离子研磨仪 ArBlade 5000

日立离子研磨仪 ArBlade 5000

日立离子研磨仪ArBlade 5000采用PLUS II离子枪技术,截面研磨速率达1mm/hr,支持8mm广域加工,兼容截面与平面混合研磨,为电镜样品制备提供纳米级无损解决方案,适用于半导体、材料科学及电子元器件分析领域。

日立离子研磨仪 ArBlade 5000 是面向高端微观分析领域的高性能样品前处理设备,专为透射电镜(TEM)、扫描电镜(SEM)及电子背散射衍射(EBSD)等精密观测技术提供高质量样品制备支持。[[3]] 该设备搭载全新研发的 PLUS II 氩离子枪,实现截面研磨速率≥1 mm/hr(Si 材料),同时支持最大 8 mm 宽度的广域截面加工,显著提升制样效率与适用范围。[[4]] 通过低温控制与真空转移技术,有效避免离子束热损伤及大气氧化污染,确保样品晶体结构完整性与表面纳米级平整度。

一、产品简介

ArBlade 5000 采用复合型混合研磨设计理念,可在同一平台完成横截面研磨与平面抛光两种模式切换,满足多样化样品制备需求。[[5]] 设备核心搭载日立高新独家 PLUS II 离子枪技术,通过提升加速电压与离子束流密度,将截面加工效率提升至行业领先水平,较前代机型效率提升约 2 倍。[[12]] 其精密机械控制系统支持多轴联动调节,配合智能软件界面,可实现研磨角度、电压、时间的程序化设定,确保不同材质样品的工艺一致性与重复性。

二、技术规格

参数项目技术规格
工作气体高纯氩气(Ar)
加速电压范围0 ~ 8 kV(连续可调)
截面研磨速率(Si)≥ 1 mm/hr [[3]]
最大截面研磨宽度8 mm(广域研磨模式)[[21]]
样品移动范围X轴:±7 mm;Y轴:0 ~ +3 mm [[13]]
离子束间歇照射ON/OFF 可编程(1 sec ~ 59 min 59 sec)[[13]]
低温控制功能支持(-30℃ ~ 室温,降低热损伤)[[8]]
真空转移接口可选配(避免大气接触污染)[[8]]
控制系统LCD 触摸屏 + 图形化操作软件
电源要求AC 220V ±10%, 50/60 Hz

三、核心功能

1. 混合研磨模式

支持横截面研磨与平面抛光双模式一键切换,适配块状、薄膜、粉末压片等多种样品形态,无需更换核心组件即可完成复合制样流程。[[5]]

2. 超高速截面加工

PLUS II 离子枪技术实现≥1 mm/hr 的硅基材料研磨速率,大幅缩短硬质材料、多层结构样品的制备周期,提升实验室通量。[[2]]

3. 广域截面研磨

专用样品座支持单次加工宽度达 8 mm,适用于集成电路、多层封装器件等大尺寸样品的完整截面观测需求。[[14]]

4. 低温无损控制

内置低温冷却模块,可在 -30℃环境下进行离子研磨,有效抑制离子束热效应导致的样品相变、晶格损伤或成分偏析。[[8]]

5. 真空转移兼容

可选配真空转移模块,实现研磨后样品直接转入电镜腔体,避免大气暴露引起的氧化、吸附污染,保障高灵敏度分析结果可靠性。[[8]]

四、应用领域

1. 半导体与电子元器件

适用于芯片封装截面、TSV 通孔、焊点界面、多层介质膜等微结构的无损制备,支持失效分析、工艺验证及可靠性评估。[[1]]

2. 先进材料与复合材料

针对碳纤维增强复合材料、金属基复合材料、陶瓷涂层等异质界面,实现无机械应力的高质量截面,清晰呈现纤维分布、界面结合及缺陷特征。

3. 金属冶金与地质矿产

用于合金相界、晶界偏析、矿物包裹体等微观组织的观测前处理,避免传统机械抛光导致的划痕、拖尾或塑性变形干扰。

4. 新能源电池材料

支持锂电正负极材料、固态电解质、电极/集流体界面等敏感样品的低温研磨,防止离子束诱导的成分迁移或结构退化。

5. 生物医学与生命科学

配合低温模块,可对生物矿化组织、植入材料-组织界面等进行纳米级截面制备,为生物材料相容性研究提供关键样本支持。

五、公司优势

广州晟锐贸易专注实验室设备流通服务,构建涵盖设备选型、技术评估、交易撮合及售后支持的闭环服务体系。我们深度对接日立高新等国际品牌资源,确保所供 ArBlade 5000 设备为原厂正品,附带完整技术文档与校准报告。平台提供设备状态透明化展示、第三方检测验证及灵活交易方案,助力科研机构与企业用户高效获取高端制样设备,降低采购风险与时间成本。

六、常见问题

1. ArBlade 5000 与传统机械抛光相比有何优势?

离子研磨通过氩离子束溅射去除材料,无机械接触,可避免划痕、应力变形及热损伤,尤其适用于软质、脆性或多层异质材料的高质量截面制备。[[25]]

2. 设备是否支持自动化批量制样?

标准配置支持程序化参数设定与多位置样品座,可选配自动样品交换模块,实现无人值守连续加工,提升高通量实验室效率。

3. 研磨后样品表面粗糙度可达什么水平?

在优化参数下,离子研磨可实现纳米级表面平整度(Ra < 10 nm),满足高分辨率 SEM/TEM 及 EBSD 取向分析对样品表面质量的严苛要求。

4. 设备维护周期与耗材成本如何?

离子枪寿命通常可达 2000 小时以上,日常维护以气体纯度检查、真空系统保养为主,耗材成本可控,平台可提供延保与耗材供应支持。

总结

日立离子研磨仪 ArBlade 5000 凭借 PLUS II 离子枪、广域截面研磨及低温无损控制等核心技术,为微观分析领域提供高效、精准、可靠的样品制备解决方案。其混合研磨模式与真空转移兼容性,进一步拓展了在半导体、先进材料、新能源等前沿领域的应用深度,是提升电镜分析质量与研发效率的关键装备。

广州晟锐贸易作为专业实验室设备交易平台,具备完善的设备评估体系与技术服务团队,可为客户提供 ArBlade 5000 的选型咨询、状态验证、交易支持及售后协调一站式服务。欢迎联系专业工程师获取设备详细资料、技术参数及定制化解决方案。

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