日立离子研磨仪 ArBlade 5000
日立离子研磨仪ArBlade 5000采用PLUS II离子枪技术,截面研磨速率达1mm/hr,支持8mm广域加工,兼容截面与平面混合研磨,为电镜样品制备提供纳米级无损解决方案,适用于半导体、材料科学及电子元器件分析领域。

日立离子研磨仪ArBlade 5000采用PLUS II离子枪技术,截面研磨速率达1mm/hr,支持8mm广域加工,兼容截面与平面混合研磨,为电镜样品制备提供纳米级无损解决方案,适用于半导体、材料科学及电子元器件分析领域。

国产全自动热蒸发镀碳仪RQC-3S,采用高精度热蒸发技术,支持程序化镀膜控制,适用于电镜样品制备、薄膜材料研究等场景,具备自动化操作、镀膜均匀、重复性高等核心优势,满足实验室高效镀碳需求。

国产全自动磁控离子溅射仪RQC-2S,专为SEM/EDS样品制备设计,支持金/铂/钯等靶材,镀膜均匀可控,操作简便,适用于材料科学、电子半导体、生物医学等微观分析样品导电处理,提升成像质量与分析精度。
注意:每日仅限20个名额

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